通遼科技大市場暨內蒙古東部常設技術市場

設備名稱：反應離子刻蝕機 

儀器型號：RIE-502 

所屬單位：西北工業大學-微/納米系統實驗室 

設備原值：58 萬元 

制造廠商：北京創威納科技有限公司 

生產國別：中國 

當前狀態：對外服務 

儀器設備詳細指標 

主要技術指標 1.極限真空： 4.0×10-4 Pa2.刻蝕材料: Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、Au、Al、GaN、GaAs等3.真空室規格: φ300´100 4.電極尺寸: φ200mm5.刻蝕速率： 0.1 ~ 1μ/min  

功能/應用范圍 用于MEMS淺槽刻蝕工藝  

服務領域  農/林/牧/漁  輕工/紡織  石油/石化  食品/煙草  地質/礦產  礦業/冶金  鋼鐵/有色金屬  水文氣象  非金屬/珠寶  橡膠/塑料(材料)  通信/郵政  機械制造  醫療/衛生  生物/醫藥  地質勘探  電氣工程  儀器/儀表  航空/航天  電子/信息技術  交通/運輸(公路/鐵路)  環保/水利/氣象/天文  其它   

技術特色   

服務情況及收費標準 

對外服務(平均機時/年)   

收費標準（元/樣品）   

聯系方式 

聯系人 馬志波  

聯系電話 029-88495102-8031  

傳真 029-88495102  

電子郵件 zbma@nwpu.edu.cn