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              一種用于版畫制作的繪圖架
              發布日期:2022/1/27 9:54:43
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              一種用于版畫制作的繪圖架

              【實用新型專利】  【事務數據】

              授權公告號:CN207045045U

              授權公告日:2018.02.27

               請  號:2017209959126

               請  日:2017.08.01

              利 權人:內蒙古民族大學

                   址:028000內蒙古自治區通遼市科爾沁區霍林河大街西536號內蒙古民族大學

               明  人:張琪

                   要:本實用新型涉及美術用品技術領域,具體的是一種用于版畫制作的繪圖架。版畫作品需要經過大量的雕刻操作才能完成,在上述雕刻過程中,刻版材料位置不固定,還需人工按壓固定,造成雕刻不便。本實用新型包括底座、支架、工作臺,支架固定安裝在底座上,工作臺安裝在支架上,工作臺呈圓盤狀,邊緣設有凸緣,凸緣上設有至少兩個撐桿,工作臺與支架之間設有調節裝置,調節裝置包括角度調節裝置、旋轉調節裝置,旋轉調節裝置用于調整工作臺自身的旋轉角度和/或工作臺的朝向角度,角度調節裝置用于調整工作臺的俯仰角度。本實用新型采用圓盤式的工作臺固定刻版材料,結構簡單、功能完善,很好地解決了常規版畫制作過程中刻版操作費時費力的問題。

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