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一種清洗槽及晶圓槽式清洗機
[實用新型] 一種清洗槽及晶圓槽式清洗機
- 授權公告號：
- CN220216144U
- 授權公告日：
- 2023.12.22
- 申請號：
- 2023201066443
- 申請日：
- 2023.02.03
- 專利權人：
- 合肥晶合集成電路股份有限公司
- 發明人：
- 林士閔;劉蘇濤
- 地址：
- 230012安徽省合肥市新站區合肥綜合保稅區內西淝河路88號
- 摘要：
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本實用新型提供一種清洗槽及晶圓槽式清洗機，其中，所述清洗槽包括槽體和設于所述槽體內的多個擾流件，所述槽體具有用于放置晶圓的晶圓放置區域，多個所述擾流件圍繞所述晶圓放置區域依次設置，且各所述擾流件沿所述槽體的高度方向延伸設置。利用本實用新型提供的一種清洗槽及晶圓槽式清洗機，通過在所述槽體內設置的多個所述擾流件阻礙或者改變部分所述清洗液的原有運行狀態，提高所述槽體內的流場均勻性，從而有效避免由于所述清洗槽內因所述清洗液流場不均勻而導致所述晶圓表面的雜質顆粒無法被清洗干凈或者由于擾流現象而使存在于所述清洗液內的其他雜質顆粒二次粘附在所述晶圓表面的問題，進而提高晶圓良率。
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蒙公網安備 15050202000321號
